特許
J-GLOBAL ID：200903069932759417
製造ライン解析方法及び製造ライン解析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-332063
公開番号（公開出願番号）：特開平10-173021
出願日： 1996年12月12日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 規格外の原因に対する迅速な対処が可能な製造ライン解析方法及び製造ライン解析装置を得る。【解決手段】 装置A1〜A8から得られる測定結果のデータをそれぞれデータベースC1〜C8に格納する。データベース監視コンピュータE1は、データベースC1〜C8に新しいデータが格納される度に、データベースC1〜C8に格納されているデータのうち、関連したデータを検索して不良解析データベースD3に格納する。データ解析装置D0は不良解析データベースD3に格納されているデータを表示してオペレータに知らせる。これにより、オペレータは、製品ウエハが製造ライン中を流れていても、規格外が生じていること及びその原因を判断でき、規格外の原因に対する対処を迅速に行うことができる。
請求項（抜粋）：
製造ラインに含まれる処理装置により処理対象物の処理が行われた際にその処理の結果のデータとその処理の条件のデータとを含む条件結果データをデータベースに格納する第1のステップと、前記第1のステップが繰り返し行われることにより前記データベースに前記条件結果データが蓄積され、前記製造ラインに含まれる処理装置により処理対象物の処理が行われた際に、その処理と同じ条件を有する条件結果データを前記データベースに格納されている条件結果データから検索する第2のステップと、前記第2のステップで検索された条件結果データに基づいて前記製造ラインに含まれる処理装置又は処理対象物を解析する第3のステップと、を備えた製造ライン解析方法。
FI (2件)：
H01L 21/66 Z
, H01L 21/66 A
