特許
J-GLOBAL ID：200903070001709740
光学素子、光学素子の作製方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡辺 隆男
, 大澤 圭司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-182024
公開番号（公開出願番号）：特開2006-003762
出願日： 2004年06月21日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：
【課題】位相差型露光マスクに形成される凹凸の段差を最適な値とすることにより、0次光の値を低くし、回折光学素子を作製するため製造マージンを広げる。【手段】回折光学素子を露光装置による一括露光とドライエッチングにより作製するプロセスであって、露光装置に用いられる透明基板の所定の領域に段差による位相格子を形成した露光マスクにおいて、前記露光マスクを使用する際の露光光の波長をλとすると、露光マスクに形成される段差Pが、(1/2)*λ/(n-1)<P<(11/20)*λ/(n-1)であることを特徴とする露光マスクを用いて回折光学素子を作製することにより、様々な回折光学素子を作製することができる。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
透明基板の所定の領域に段差による位相格子を形成した露光装置に用いられる露光マスクにおいて、
前記露光マスクを使用する際の露光光の波長をλ、基板を構成する材料の屈折率をnとすると、露光マスクに形成される段差Pが、
(1/2)*λ/(n-1)<P<(11/20)*λ/(n-1)
であることを特徴とする露光マスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G02B 5/18
, G03F 7/20
G03F1/08 A
, G02B5/18
, G03F7/20 501
2H049AA03
, 2H049AA13
, 2H049AA33
, 2H049AA37
, 2H049AA51
, 2H049AA55
, 2H049AA64
, 2H095BA12
, 2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H097GB04
, 2H097LA17
