特許
J-GLOBAL ID：200903006422772492

フォトマスク、微細構造体、フォトマスクの製造方法及び露光装置

発明者：
宮前 章

宮前 章 について

, 
長坂 公夫

長坂 公夫 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-036055
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177507
出願日： 2002年02月13日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：
【要約】【課題】 正確な階調表現が可能なフォトマスクを提供する。【解決手段】 透明基板(42)と、この基板に形成された一定ピッチ(P)の複数の溝からなる位相格子と、を備え、この位相格子の各溝の深さ又は幅が露光パターンを担うようにする。そして、このフォトマスクを照射する露光装置の露光光の波長をλ、結像系レンズの入射側開口数をNA<SB>i</SB>とすると、P<λ/NA<SB>i</SB>に設定する。それにより、格子が結像されなくなり、位相格子の各溝の深さや幅等で表現された露光パターンが感光材料に転写される。
請求項（抜粋）：
透明基板と、前記基板に形成された一定ピッチの複数の溝からなる位相格子と、を備え、前記位相格子の各溝の深さ及び幅の少なくともいずれかが露光パターンを担っているフォトマスク。
IPC (8件)：
G03F 1/08 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 501 ,  G03H 1/08 ,  H01L 21/027
FI (10件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 B ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03F 1/14 A ,  G03F 7/20 501 ,  G03H 1/08 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (47件)：
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA25 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA44 ,  2H049AA48 ,  2H049AA50 ,  2H049AA55 ,  2H049CA01 ,  2H049CA05 ,  2H049CA11 ,  2H049CA15 ,  2H049CA28 ,  2H095BB02 ,  2H095BB03 ,  2H095BB07 ,  2H095BB31 ,  2H095BC28 ,  2H097AA03 ,  2H097BB10 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097GB00 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA17 ,  2K008AA00 ,  2K008BB04 ,  2K008BB08 ,  2K008CC03 ,  2K008DD12 ,  2K008EE01 ,  2K008FF12 ,  2K008FF14 ,  2K008FF27 ,  2K008HH01 ,  2K008HH06 ,  2K008HH14 ,  2K008HH18 ,  2K008HH26 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12
引用特許：
審査官引用 (13件)
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