特許
J-GLOBAL ID：200903070039953297

光学特性測定方法及び光学特性測定装置、光学系の調整方法、並びに露光装置

発明者：
藤井 透

藤井 透 について

, 
田中 一政

田中 一政 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-327223
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133207
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：
【要約】【課題】 被検光学系の光学特性を精度良く測定する。【解決手段】 被検光学系を介した光が強度分割光学系960により強度分割される。引き続き、強度分割された複数の光それぞれが、それらの複数の光それぞれに応じて配置され、互いに異なる波面分割数(波面分割ピッチ)を有する波面分割光学系941,942それぞれにより波面分割され、波面分割光学系941,942ごとに複数の光の像が形成される。そして、複数の波面分割光学系941,942それぞれに応じて配置された像検出装置951,952が、複数の光の像を検出する。そして、複数の像検出装置ごとに検出された複数の光の像それぞれの位置情報を算出した後、それらの位置情報に基づいて、被検光学系の光学特性が求められる。
請求項（抜粋）：
被検光学系の光学特性を測定する光学特性測定方法であって、前記被検光学系を介した光の波面を第1の分割数で分割して、前記第1の分割数で分割された光ごとに像を形成し、前記第1の分割数で分割された複数の光の像それぞれの位置情報を検出する第1の像位置検出工程と;前記被検光学系を介した光の波面を前記第1の分割数とは異なる第2の分割数で分割して、前記第2の分割数で分割された光ごとに像を形成し、前記第2の分割数で分割された複数の光の像それぞれの位置情報を検出する第2の像位置検出工程と;前記第1の像位置検出工程において検出された前記第1の分割数における複数の光の像それぞれの位置情報と、前記第2の像位置検出工程において検出された前記第2の分割数における複数の光の像それぞれの位置情報とに基づいて、前記被検光学系の光学特性を算出する光学特性算出工程と;を含む光学特性測定方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G01M 11/02 ,  G02B 7/28 ,  G03F 7/20 521
FI (5件)：
G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 512 ,  G02B 7/11 M
Fターム (10件)：
2G086HH06 ,  2H051AA10 ,  2H051BB25 ,  2H051CC02 ,  2H051DA07 ,  5F046BA03 ,  5F046CB13 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DC12
引用特許：
審査官引用 (1件)

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