プラズマ密度測定装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-291645
公開番号（公開出願番号）：特開2000-123995
出願日： 1998年10月14日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】レーザー光の位相分布測定によって単一光路の干渉計を用いてプラズマ密度の測定を可能にする。【解決手段】レーザー1と、このレーザー1からのレーザー光2を拡大する拡大光学系3と、この拡大光学系3により拡大され測定対象プラズマ8を透過したレーザー光12が入射され、このレーザー光12の位相分布を検出する波面測定部20と、この波面測定部20により検出された位相分布を読み取るCCDカメラ10と、このCCDカメラ10により読み取られたデータに基づき位相分布の画像を作成する画像処理部11とから構成されたものである。

請求項（抜粋）：

レーザーと、該レーザーからのレーザー光を拡大する拡大光学系と、該拡大光学系により拡大され測定対象プラズマを透過したレーザー光が入射され、該レーザー光の位相分布を検出する波面測定部と、該波面測定部により検出された位相分布を読み取るCCDカメラと、該CCDカメラにより読み取られたデータに基づき位相分布の画像を作成する画像処理部とから構成されたプラズマ密度測定装置。

IPC (3件)：

H05H 1/00 , G01N 21/41 , G01N 21/45

FI (3件)：

H05H 1/00 A , G01N 21/41 Z , G01N 21/45 A

Fターム (16件)：

2G059AA05 , 2G059BB15 , 2G059BB20 , 2G059EE01 , 2G059EE09 , 2G059EE20 , 2G059FF01 , 2G059GG01 , 2G059JJ14 , 2G059JJ30 , 2G059KK04 , 2G059LL10 , 2G059MM01 , 2G059NN05 , 2G059NN06 , 2G059PP10

引用特許：

審査官引用 (7件)

電子密度計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-021259 出願人：三菱重工業株式会社
レーザレーダ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-189785 出願人：石川島播磨重工業株式会社
ライダ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-044502 出願人：新日本製鐵株式会社

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