特許
J-GLOBAL ID：200903070048753314

薄膜およびその製造方法

発明者：
内山 直行

内山 直行 について

, 
加藤 元

加藤 元 について


出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-316160
公開番号（公開出願番号）：特開2007-123152
出願日： 2005年10月31日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：
【課題】 従来技術が有する前述の欠点を解消し、高プロトン伝導性、酸触媒能力、イオン交換能力、耐薬品性、耐熱性に優れたナノメーターサイズの細孔を有し、細孔壁にプロトン供与基などを配したハイブリッド膜を提供すること。【解決手段】 直径2nm〜500nmの3次元細孔を有する薄膜の細孔内に薄膜の細孔径より小さい直径の細孔を有し、プロトン伝導性、イオン交換性のいずれかの性質を少なくとも1つ以上有する金属酸化物を含有することを特徴とする薄膜。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
直径2nm〜500nmの3次元細孔を有する薄膜の細孔内に薄膜の細孔径より小さい直径の細孔を有し、プロトン伝導性、イオン交換性のいずれかの性質を少なくとも1つ以上有する金属酸化物を含有することを特徴とする薄膜。
IPC (3件)：
H01B 1/06 ,  H01B 13/00 ,  C08J 5/22
FI (4件)：
H01B1/06 A ,  H01B13/00 Z ,  C08J5/22 103 ,  C08J5/22
Fターム (28件)：
4F071AA51 ,  4F071AA60 ,  4F071AC16 ,  4F071AE10 ,  4F071FA03 ,  4F071FA05 ,  4F071FA07 ,  4F071FB01 ,  4F071FC08 ,  4F071FD04 ,  4F071FD05 ,  5G301CA02 ,  5G301CA12 ,  5G301CA19 ,  5G301CA25 ,  5G301CA28 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5H026AA06 ,  5H026BB03 ,  5H026BB04 ,  5H026BB08 ,  5H026BB10 ,  5H026CX04 ,  5H026CX05 ,  5H026EE12 ,  5H026EE18 ,  5H026HH04
引用特許：
出願人引用 (9件)
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