特許
J-GLOBAL ID:200903070050150570
極紫外線を発生するための装置および方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤田 アキラ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-154644
公開番号(公開出願番号):特開2007-012603
出願日: 2006年06月02日
公開日(公表日): 2007年01月18日
要約:
【課題】極紫外線を発生するための装置および方法を提供する。【解決手段】極紫外線を発生するための装置および方法の目的は、様々なエミッタを使用するために電極の耐用年数を増加させた放射線源を作製することであり、放電チャンバ内の堆積物は金属エミッタを用いる時にかなり低減される。出発原料は、指向注入によって連続的に導入されてパルスエネルギービームにより予備イオン化される連続した一連の単一体積として供給される。少なくとも比較的大きい熱負荷がかかる電極が回転電極として作製される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
放射線放射プラズマを形成するガス放電のための放電領域を有する放電チャンバと、第1電極および第2電極と、放射線を発生する働きをする出発原料の予備イオン化のためのエネルギービームを供給するエネルギービーム源と、2つの電極のために高電圧パルスを発生する高電圧電源とを備え、少なくとも第1電極が回転可能に取付けられた極紫外線の発生装置であって、
注入装置(10)が放電領域(5)に向けられ、放射線を発生する働きをする一連の単一体積(9)の出発原料を供給し、それらを電極(2、3)から離れた位置から放電領域(5)に注入することを特徴とする装置。
IPC (3件):
H05G 2/00
, G03F 7/20
, H01L 21/027
FI (3件):
H05G1/00 K
, G03F7/20 503
, H01L21/30 531S
Fターム (12件):
2H097CA15
, 2H097LA10
, 4C092AA04
, 4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AB19
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD09
, 4C092BD17
, 4C092BD18
, 5F046GC03
引用特許:
出願人引用 (2件)
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独国特許出願公開第10219173A1号明細書
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国際公開第2005025280A2号パンフレット
審査官引用 (1件)
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極端紫外光源
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-087925
出願人:ウシオ電機株式会社
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