特許
J-GLOBAL ID:200903070062481475

めっき物及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  舘石 光雄 ,  中村 壽夫 ,  加藤 勉 ,  小野塚 薫 ,  ▲高▼ 昌宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-182194
公開番号(公開出願番号):特開2008-190026
出願日: 2007年07月11日
公開日(公表日): 2008年08月21日
要約:
【課題】めっき物及びその製造方法を提供する。【解決手段】基材の表面上に導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層が形成され、該塗膜層上に金属めっき膜が無電解めっき法により形成されためっき物であって、前記バインダーは、前記導電性高分子微粒子1質量部に対して0.1ないし10質量部で存在し、前記塗膜層の厚さは20ないし500nmであり、該塗膜層はその表面上に0.1μg/cm2以上の触媒金属を吸着でき、該塗膜層の上側半分の中に前記導電性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する、めっき物及びめっき物の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
基材の表面上に導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層が形成され、該塗膜層上に金属めっき膜が無電解めっき法により形成されためっき物であって、 前記バインダーは、前記導電性高分子微粒子1質量部に対して0.1ないし10質量部で存在し、前記塗膜層の厚さは20ないし500nmであり、該塗膜層の上側半分の中に前記導電性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する、 めっき物。
IPC (2件):
C23C 18/28 ,  H05K 3/18
FI (2件):
C23C18/28 ,  H05K3/18 B
Fターム (20件):
4K022AA11 ,  4K022BA08 ,  4K022CA06 ,  4K022CA14 ,  4K022CA21 ,  4K022CA22 ,  4K022DA01 ,  5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343AA38 ,  5E343BB24 ,  5E343CC22 ,  5E343CC73 ,  5E343DD33 ,  5E343EE02 ,  5E343EE13 ,  5E343EE23 ,  5E343ER02 ,  5E343GG02 ,  5E343GG06
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特許第3069942号明細書
  • 特許第3208735号明細書
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る