ムラ検査装置およびムラ検査方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松阪正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-017077
公開番号（公開出願番号）：特開2006-313143
出願日： 2006年01月26日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：

【課題】膜厚ムラを精度良く検出する。【解決手段】ムラ検査装置1は、基板9を保持するステージ2、基板9の膜92が形成された上面91に向けて線状光を出射する光出射部3、基板9からの反射光を受光する受光部4、受光部4にて受光される光の波長帯を切り替える波長帯切替機構5、基板9から波長帯切替機構5に至る光路上に配置されるとともに膜92からの反射光のうちS偏光光を選択的に透過する偏光子6、ステージ2を移動する移動機構21、および、受光した光の強度分布に基づいて膜厚ムラを検査する検査部7を備える。S偏光光に対する反射率の変動は無偏光光やP偏光光に対する反射率の変動に比べて大きいため、ムラ検査装置1では、偏光子6により受光部4にて受光される光をS偏光光とすることにより、ラインセンサ41の膜厚ムラに対する感度を向上して膜厚ムラを精度良く検出することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査装置であって、主面上に光透過性の膜が形成されている基板を保持する保持部と、前記膜に対して傾斜して入射する光を出射する光出射部と、前記膜にて反射された後の特定の波長帯の光を受光して前記膜からの前記特定の波長帯の光の強度分布を取得するセンサと、前記光出射部から前記センサに至る光路上に配置されるとともに前記膜に対するS偏光光を選択的に透過する偏光子と、を備えることを特徴とするムラ検査装置。

IPC (2件)：

G01B 11/06 , G01N 21/956

FI (2件)：

G01B11/06 G , G01N21/956 Z

Fターム (33件)：

2F065AA30 , 2F065BB01 , 2F065CC19 , 2F065CC31 , 2F065DD03 , 2F065DD04 , 2F065FF41 , 2F065FF49 , 2F065FF52 , 2F065GG02 , 2F065HH05 , 2F065HH12 , 2F065JJ02 , 2F065JJ08 , 2F065JJ25 , 2F065LL08 , 2F065LL22 , 2F065LL23 , 2F065LL34 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ33 , 2F065SS13 , 2G051AA51 , 2G051AB20 , 2G051BA11 , 2G051CA03 , 2G051CB01 , 2G051CC07 , 2G051CC20 , 2G051DA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

表面欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-065456 出願人：オリンパス光学工業株式会社

前のページに戻る