表面欠陥検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-065456
公開番号（公開出願番号）：特開2002-267416
出願日： 2001年03月08日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】被検体表面上の欠陥部分を検出すると共にその欠陥部分の膜厚を同時に効率よく計測する。【解決手段】ラインセンサカメラ6の撮像により得られた被検体1の画像データと予め記憶されたリファレンス画像データとに基づいて被検体1の表面上の欠陥部分Gを抽出すると共に、干渉縞演算部24により被検体1に形成された薄膜に関する情報に基づいて薄膜により生じる干渉縞の理論的な複数の膜厚データDa、Dbなどを求め、膜厚計測部29によりラインセンサカメラ6の撮像により得られた被検体1の画像データと干渉縞の理論的な膜厚データDa、Dbなどに基づいて薄膜の膜厚値を計測する。

請求項（抜粋）：

表面に薄膜が形成された被検体に対して照明光を照射したときの前記被検体表面を撮像し、この撮像により得られ所定の波長帯域の画像データを画像処理して前記被検体表面上の欠陥検査を行なう表面欠陥検査装置において、前記薄膜に関する情報に基づいて前記薄膜により生じる干渉縞の理論的なデータを求める干渉縞演算手段と、前記画像データと基準画像データとに基づいて前記被検体表面上の欠陥部分を抽出する欠陥抽出手段と、前記撮像により得られた前記画像データと前記干渉縞の理論的なデータとに基づいて前記薄膜の膜厚値を計測する膜厚計測手段と、を具備したことを特徴とする表面欠陥検査装置。

IPC (6件)：

G01B 11/06 , G01N 21/956 , G02F 1/13 101 , G06T 1/00 305 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (6件)：

G01B 11/06 G , G01N 21/956 A , G02F 1/13 101 , G06T 1/00 305 A , H01L 21/66 P , H01L 21/30 502 V

Fターム (54件)：

2F065AA30 , 2F065BB01 , 2F065BB17 , 2F065CC19 , 2F065FF04 , 2F065FF51 , 2F065GG02 , 2F065HH04 , 2F065HH12 , 2F065JJ02 , 2F065JJ08 , 2F065JJ25 , 2F065LL08 , 2F065LL21 , 2F065MM03 , 2F065QQ31 , 2F065QQ42 , 2F065QQ43 , 2F065RR06 , 2F065RR08 , 2F065UU05 , 2G051AA51 , 2G051AB07 , 2G051BA08 , 2G051CA03 , 2G051CB01 , 2G051CC07 , 2G051DA06 , 2G051EB01 , 2G051ED03 , 2G051ED08 , 2H088FA11 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 4M106AA01 , 4M106CA38 , 4M106CA48 , 4M106DB04 , 4M106DH03 , 4M106DH31 , 4M106DJ11 , 4M106DJ23 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057BA15 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB05 , 5B057DB09 , 5B057DC19 , 5B057DC22 , 5B057DC30 , 5B057DC33

引用特許：

出願人引用 (5件)

検査方法および検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-130738 出願人：株式会社日立製作所
分布測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-120652 出願人：セイコーエプソン株式会社
表面欠陥検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-016770 出願人：オリンパス光学工業株式会社

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審査官引用 (5件)

検査方法および検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-130738 出願人：株式会社日立製作所
分布測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-120652 出願人：セイコーエプソン株式会社
表面欠陥検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-016770 出願人：オリンパス光学工業株式会社

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