特許
J-GLOBAL ID:200903070129626899
インクジェットヘッドおよびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
深見 久郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-165154
公開番号(公開出願番号):特開2000-000971
出願日: 1998年06月12日
公開日(公表日): 2000年01月07日
要約:
【要約】【課題】 エッチング工程を良好に行なうことにより、特性に優れたインクジェットヘッドおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 シリコンウェハを用いたインクジェットヘッドであって、(110)面を主表面とするシリコンウェハ表面に、SiXm (Xは、O、NおよびCからなる群から選ばれるいずれかの元素;mは任意の数)で表わされる材料からなるエッチングストップ層350が形成されたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
シリコンウェハを用いたインクジェットヘッドであって、(110)面を主表面とするシリコンウェハ表面に、SiXm (Xは、O、NおよびCからなる群から選ばれるいずれかの元素;mは任意の数)で表わされる材料からなるエッチングストップ層が形成されたことを特徴とする、インクジェットヘッド。
IPC (3件):
B41J 2/16
, B41J 2/045
, B41J 2/055
FI (2件):
B41J 3/04 103 H
, B41J 3/04 103 A
Fターム (6件):
2C057AF24
, 2C057AF93
, 2C057AP02
, 2C057AP34
, 2C057AP52
, 2C057AQ02
引用特許:
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