特許

J-GLOBAL ID：200903070157580829

光ファイバアレイの製造方法および光導波路の製造方法

発明者： 松浦 一郎 ,  榎本 圭高 ,  泉田 史
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社 ,  日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079656
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275450
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】 光フィルタ用の切り欠きを形成するに際し、ブレードの位置制御が容易な光ファイバアレイの製造方法および光導波路の製造方法を提供すること。【解決手段】 複数の光ファイバ4a〜4gがファイバ固定部6に並置されるとともに光ファイバ内を通過する光の所定の波長成分を透過または反射させる光フィルタ18を備えた光ファイバアレイ2の製造方法において、円状の切削軌道を形成する切削手段14を、光ファイバ4a〜4gの並置方向Zに対して垂直な方向Xに移動させて、複数の光ファイバ4a〜4gのうち少なくとも一本を横断するとともにファイバ固定部6を貫通する切り欠き16を形成する切り欠き形成工程と、光フィルタ18を切り欠き16内に配置する光フィルタ配置工程と、を備えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

複数の光ファイバがファイバ固定部に並置されるとともに前記光ファイバ内を通過する光の所定の波長成分を透過または反射させる光フィルタを備えた光ファイバアレイの製造方法において、円状の切削軌道を形成する切削手段を、前記光ファイバの並置方向に対して垂直な方向に移動させて、前記複数の光ファイバのうち少なくとも一本を横断するとともに前記ファイバ固定部を貫通する切り欠きを形成する切り欠き形成工程と、前記光フィルタを前記切り欠き内に配置する光フィルタ配置工程と、を備えることを特徴とする光ファイバアレイの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/08 ,  G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/08 ,  G02B 6/12 F

Fターム (9件)：

2H046AA02 ,  2H046AA24 ,  2H046AC21 ,  2H046AZ04 ,  2H047KA04 ,  2H047LA09 ,  2H047LA19 ,  2H047PA24 ,  2H047TA43

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ファイバ集積型光部品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-096906   出願人：富士電気化学株式会社
• 光ファイバジャイロ及び光集積回路
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-236984   出願人：株式会社トキメック