特許

J-GLOBAL ID：200903070224568715

回転式基板処理装置

発明者： 村田 貴
出願人/特許権者： 住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 生形 元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-288016
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111665
出願日： 1997年10月03日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 枚葉式の回転式基板処理装置において、使用した薬液の回収率を高める。装置価格を引き下げる。振動を抑える。【解決手段】 基板1を水平に支持して回転させる回転機構10の周囲に、基板1から飛散する液体を受けるカップ20を設ける。カップ20は、上下方向に移動可能な可動式の上カップ20Aと、固定式の下カップ20Bとからなる。上カップ20Aは、その内側空間を上下に仕切る仕切り部29を有し、仕切り部29が基板1より上方となる位置に上昇した状態で、基板1から飛散する液体を下カップB内に導き、仕切り部29が基板1より下方となる位置に下降した状態で、基板1から飛散する液体を下カップBの外に導くことにより、2種類の薬液を分離回収する。

請求項（抜粋）：

処理すべき基板を水平に支持して回転させる回転機構と、基板の回転によって基板から飛散する2種類の液体を回収するべく回転機構の周囲に設けられたカップとを具備する枚葉タイプの回転式基板処理装置において、前記カップが上下方向に移動可能な可動式の上カップと固定式の下カップとに分割されており、可動式の上カップはその内側空間を上下に仕切る仕切り部を有し、仕切り部が基板より上方に位置した状態で、基板から飛散する第1の液体を固定式の下カップ内に導き、仕切り部が基板より下方に位置した状態で、基板から飛散する第2の液体を固定式の下カップの外に導くことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 351 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/304 351 S ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 564 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 処理方法及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-200289   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社