特許

J-GLOBAL ID：200903070288581545

新規なエステル化合物

発明者： 原田 裕次 ,  畠山 潤 ,  河合 義夫 ,  大谷 充孝 ,  宮澤 覚 ,  堤 憲太郎 ,  前田 一彦
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-182404
公開番号（公開出願番号）：特開2003-226689
出願日： 2002年06月24日
公開日（公表日）： 2003年08月12日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1はフッ素原子又は少なくとも1個以上のフッ素原子を有する炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R2は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基を示す。R3及びR4はそれぞれ単結合もしくは炭素数1〜20のアルキレン基を示す。)【効果】 本発明のエステル化合物をモノマーとして製造した樹脂を用いたレジスト材料は、透明性に優れると共に基板密着性に優れているため、電子線や遠紫外線、特にF2エキシマレーザーによる微細加工に有用である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1はフッ素原子又は少なくとも1個以上のフッ素原子を有する炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R2は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基を示す。R3及びR4はそれぞれ単結合もしくは炭素数1〜20のアルキレン基を示す。)

IPC (7件)：

C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D309/30 ,  C07D493/18 ,  C07D495/18 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601

FI (7件)：

C07D307/93 ,  C07D309/30 D ,  C07D493/18 ,  C07D495/18 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601 ,  C07D307/32 Q

Fターム (21件)：

2H025AA14 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BG00 ,  4C037FA10 ,  4C062BB60 ,  4C071AA03 ,  4C071BB02 ,  4C071CC11 ,  4C071CC21 ,  4C071EE13 ,  4C071FF14 ,  4C071KK11 ,  4C071LL03 ,  4J100AL26P ,  4J100BA11P ,  4J100BA51P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-030542   出願人：信越化学工業株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-332641   出願人：住友化学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Construction of Trifluoromethylated Quarternary Carbons via Diels-Alder Reactions of 2-(Trifluoromet