成膜装置及び成膜方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-089116
公開番号（公開出願番号）：特開平6-280026
出願日： 1993年03月24日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：

【要約】【目的】気相法でフレキシブルなフィルム状の基板上に薄膜を形成する際に、薄膜に残存する内部応力によって基板が反ってしまうことを防止する。【構成】気相法で薄膜を形成する際に予め、成膜せんとする薄膜に残存する内部応力を打ち消す向きに応力が働くように基板を湾曲させておき、成膜を行う。こうすることにより、基板の湾曲に起因する応力と基板上に成膜される薄膜に残存する応力とが打ち消し合い、基板の反り、薄膜と基板との界面における応力、該応力に起因するクラック、等を防ぐことができる。

請求項（抜粋）：