特許

J-GLOBAL ID：200903070325944203

レーザ照射装置

発明者： 河口 紀仁 ,  村上 隆彦 ,  石井 幹人 ,  西田 健一郎 ,  正木 みゆき
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 堀田 実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-165382
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012757
出願日： 2002年06月06日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】コヒーレント性の高いレーザ光源を用いても接合面にて回折光や反射光による干渉縞が発生せず、照射対象物を均一に照射できるレーザ照射装置を提供する。【解決手段】レーザビーム1を円形断面形状から直線断面形状に変形して照射対象物に照射するレーザ照射装置。円形のレーザビーム1aを出射するレーザ光源12と、レーザビームを直線状に変形するレンズ系14と、レーザビーム1bの強度分布の均質化するホモジナイザ16と、ホモジナイザとレンズ系の間に設けられレーザビームの干渉作用を低減する干渉低減装置20とを備える。干渉低減装置20は、コヒーレント長よりも長い所定の長さXだけ順次長くした複数の透明ガラス板22aからなる光路補正レンズ22と、光路補正レンズ22の境界面に入射するレーザビームを遮蔽するフォトマスク21からなる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

レーザビーム(1)を円形断面形状から直線断面形状に変形して照射対象物に照射するレーザ照射装置において、 円形断面形状のレーザビーム(1a)を出射するレーザ光源(12)と、該レーザビームを直線断面形状に変形するレンズ系(14)と、該レンズ系を出たレーザビーム(1b)の強度分布の均質化するホモジナイザ(16)と、該ホモジナイザとレンズ系の間に設けられレーザビームの干渉作用を低減する干渉低減装置(20)と、を備えたことを特徴とするレーザ照射装置。

IPC (2件)：

G02B27/09 ,  H01L21/268

FI (2件)：

G02B27/00 E ,  H01L21/268 J

Fターム (4件)：

4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  4E068CD10 ,  4E068CD14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-169815
  
• 特開昭60-230629
  
• レーザ穴あけ加工方法及び加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-290054   出願人：住友重機械工業株式会社