特許
J-GLOBAL ID：200903070326232029

一酸化炭素選択酸化除去装置および一酸化炭素選択酸化除去方法

発明者：
高山 雅子

高山 雅子 について

, 
中 貴弘

中 貴弘 について

, 
磯部 昭司

磯部 昭司 について


出願人/特許権者：
本田技研工業株式会社

本田技研工業株式会社 について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-024931
公開番号（公開出願番号）：特開2002-234707
出願日： 2001年01月31日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】 被処理ガスの量が変動したり、あるいは、被処理ガスに含まれる一酸化炭素濃度が変動した場合であっても、効率良く一酸化炭素を選択酸化する【解決手段】 一酸化炭素選択酸化除去装置20を、第1及び第2及び第3選択酸化除去部21,22,23を改質ガスの流れ方向に順次、直列配置して構成した。各選択酸化除去部21,22,23は、改質ガスの流れ方向に対して順に、熱交換部11と空気供給部12とガス混合部13と各第1及び第2及び第3触媒反応部34,44,54とを備えて構成した。各触媒反応部34,44,54には、アルミナ担体にPt等の触媒金属を担持し、ハニカム化して形成された各触媒層34a,44a,54aを備えた。各触媒層34a,44a,54aは、単位体積当たりの触媒金属担持量を同一とし、改質ガスの流れ方向における各長さL1、L2、L3に対して、L1 請求項（抜粋）：
一酸化炭素を含むガスから前記一酸化炭素を酸化することにより低減除去する一酸化炭素選択酸化触媒層を多段かつ直列に配置した一酸化炭素選択酸化除去装置であって、前記ガスの流れ方向の上流側に位置する前記一酸化炭素選択酸化触媒層ほど含有する触媒金属量を低減して、前記上流側から離間するに連れて前記触媒金属量を増大してなることを特徴とする一酸化炭素選択酸化除去装置。
IPC (4件)：
C01B 3/58 ,  C01B 3/32 ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06
FI (4件)：
C01B 3/58 ,  C01B 3/32 A ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06 G
Fターム (23件)：
4G040EA02 ,  4G040EA03 ,  4G040EB23 ,  4G040EB43 ,  4G040EC03 ,  4G040FA02 ,  4G040FB04 ,  4G040FC07 ,  4G040FE01 ,  4G140EA02 ,  4G140EA03 ,  4G140EB23 ,  4G140EB43 ,  4G140EC03 ,  4G140FA02 ,  4G140FB04 ,  4G140FC07 ,  4G140FE01 ,  5H027AA02 ,  5H027BA17 ,  5H027KK21 ,  5H027KK44 ,  5H027MM08
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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