特許

J-GLOBAL ID：200903070382142024

二流体ノズルおよびそれを用いた基板処理装置

発明者： 橋詰 彰夫
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-288822
公開番号（公開出願番号）：特開2008-108829
出願日： 2006年10月24日
公開日（公表日）： 2008年05月08日
要約：

【課題】気体の吐出流量を変更して処理対象に応じた処理を施すことができる二流体ノズルおよびそれをそなえた基板処理装置を提供する。【解決手段】DIWの液滴をウエハWに供給するための二流体ノズル3には、DIWを吐出する円状の処理液吐出口28と、処理液吐出口28を取り囲む第1気体吐出口29と、第1気体吐出口29を取り囲む第2気体吐出口31とが形成されている。第1気体吐出口29からは小流量で窒素ガスが吐出されるようになっており、第2気体吐出口31からは大流量で窒素ガスが吐出されるようになっている。第1および第2気体吐出口29,31への窒素ガスの供給を制御装置によって制御することにより、一つの二流体ノズル3で、大流量での窒素ガスの吐出と、小流量での窒素ガスの吐出とを行うことができる。これにより、表面状態に応じた処理をウエハWに施すことができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

処理液および気体が導入されるケーシングと、 前記ケーシングに形成され、処理液を吐出するための処理液吐出口と、 前記処理液吐出口を取り囲むように前記ケーシングに形成され、気体を吐出するための環状の第1気体吐出口と、 前記第1気体吐出口を取り囲むように前記ケーシングに形成され、気体を吐出するための環状の第2気体吐出口とを含み、 前記処理液吐出口から処理液を吐出させつつ、前記第1および第2気体吐出口の少なくとも一方から気体を吐出させることにより、前記ケーシング外で処理液と気体とを混合させて処理液の液滴を形成し、この処理液の液滴を処理対象に向けて吐出するようになっている、二流体ノズル。

IPC (7件)：

H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B05C 11/08 ,  B05B 7/06 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643A ,  B08B3/02 D ,  B08B3/02 B ,  B05C11/08 ,  B05B7/06 ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/30 569

Fターム (35件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB48 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB45 ,  3B201BB92 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD43 ,  4F033QA01 ,  4F033QA09 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB03X ,  4F033QB16X ,  4F033QB18 ,  4F033QD02 ,  4F033QD19 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042BA05 ,  4F042EB09 ,  4F042EB16 ,  5F046JA02 ,  5F046JA10 ,  5F046LA04 ,  5F046LA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板洗浄装置及び基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-351830   出願人：大日本スクリーン製造株式会社