特許
J-GLOBAL ID：200903070394783602
研磨剤及び研磨剤スラリー
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-094619
公開番号（公開出願番号）：特開2002-294220
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：
【要約】【課題】高純度かつ経時安定性の高い研磨剤、スクラッチ発生の極めて少ない高品質な研磨剤スラリーを提供すること。【解決手段】水酸基濃度3〜10個/nm2で、実質的にストラクチャー構造を形成していない二酸化珪素微粉末のシランカップリング剤による表面処理物からなり、シランカップリング剤による表面処理量が、処理前後の炭素量増分として0.05〜1.0質量%であり、しかもシランカップリング剤種が、フェニル基含有シラン剤単独、又はアミノ基含有シラン剤:シランモノマー剤との質量比で7:3〜9.5:0.5の混合物であることを特徴とする研磨剤。この研磨剤を水に分散させてなることを特徴とする研磨剤スラリー。
請求項（抜粋）：
水酸基濃度3〜10個/nm2で、実質的にストラクチャー構造を形成していない二酸化珪素微粉末のシランカップリング剤による表面処理物からなり、シランカップリング剤による表面処理量が、処理前後の炭素量増分として0.05〜1.0質量%であり、しかもシランカップリング剤種が、フェニル基含有シラン剤単独、又はアミノ基含有シラン剤:シランモノマー剤との質量比で7:3〜9.5:0.5の混合物であることを特徴とする研磨剤。
IPC (4件)：
C09K 3/14 550
, C09K 3/14
, B24B 37/00
, H01L 21/304 622
C09K 3/14 550 D
, C09K 3/14 550 Z
, B24B 37/00 H
, H01L 21/304 622 D
3C058CB02
, 3C058CB05
, 3C058CB10
, 3C058DA02
, 3C058DA12
, 3C058DA17
