特許
J-GLOBAL ID：200903070399749410

カルボニル化合物誘導体の連続製造方法

発明者：
大島 俊二

大島 俊二 について

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乾 貫一郎

乾 貫一郎 について

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中村 誠

中村 誠 について


出願人/特許権者：
チッソ株式会社

チッソ株式会社 について


代理人 (1件)： 庄子 幸男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-043215
公開番号（公開出願番号）：特開2000-239227
出願日： 1999年02月22日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：
【要約】【課題】 特定の装置を組み合わせることにより、カルボニル化合物の転化率が高く、かつ、目的生成物であるカルボニル化合物誘導体の選択率に優れたカルボニル化合物誘導体を連続的に製造する方法を提供する。【解決手段】 触媒の存在下にカルボニル化合物からカルボニル化合物誘導体を製造する方法において、第一の反応を槽中で行い、引き続き第二の反応を前記槽に連結した反応装置中で行うことを特徴とするカルボニル化合物誘導体の製造方法。前記第一の反応は、槽中におけるカルボニル化合の転化率が85%に達する前段で終結させ、反応液は引き続き第二の反応装置に送給する。前記触媒は、アルカリ金属のアルコキシド、水酸化物及び酸化物からなる群から選ばれる一種以上のアルカリ金属化合物と、アルカリ土類金属酸化物とから構成され、前記アルカリ金属化合物と前記アルカリ土類金属酸化物の重量比(アルカリ金属化合物の重量/アルカリ土類金属酸化物の重量)が0.005ないし1の範囲である塩基触媒である。
請求項（抜粋）：
触媒の存在下にカルボニル化合物からカルボニル化合物誘導体を製造する方法において、第一の反応を槽中で行い、引き続き第二の反応を前記槽に連結した反応装置中で行うことを特徴とするカルボニル化合物誘導体の製造方法。
IPC (4件)：
C07C 67/44 ,  B01J 23/04 ,  C07C 69/28 ,  C07B 61/00 300
FI (4件)：
C07C 67/44 ,  B01J 23/04 Z ,  C07C 69/28 ,  C07B 61/00 300
Fターム (33件)：
4G069AA08 ,  4G069BB04A ,  4G069BC02A ,  4G069BC02B ,  4G069BC03A ,  4G069BC04A ,  4G069BC12A ,  4G069BC13A ,  4G069BC13B ,  4G069CB72 ,  4H006AA02 ,  4H006AC22 ,  4H006AC41 ,  4H006AC48 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA29 ,  4H006BA30 ,  4H006BA32 ,  4H006BC32 ,  4H006BC40 ,  4H006BD21 ,  4H006BD60 ,  4H006BD80 ,  4H006BD84 ,  4H006BN10 ,  4H006KA36 ,  4H039CA10 ,  4H039CA60 ,  4H039CA66 ,  4H039CB20 ,  4H039CC30 ,  4H039CF30
引用特許：
審査官引用 (5件)
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