特許
J-GLOBAL ID:200903070426653935

はっ水性被膜、及びその形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 興作 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-177046
公開番号(公開出願番号):特開2002-363501
出願日: 2001年06月12日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】 高いはっ水性を有する膜を提供すること、及び該膜を低温で得られる方法を提供することにある。【解決手段】 本発明のはっ水性被膜は、複数の微細孔を有する膜であって、微細孔のアスペクト比が0.1以上である膜と、前記膜上の疎水性膜と、からなることを特徴とする。また、本発明のはっ水性被膜の形成方法は、2以上の高分子物質を基体上に被膜することにより、基体上に混合高分子膜を形成し、前記混合高分子膜から少なくとも1の前記高分子物質を除去することにより、複数の微細孔を有する膜を形成し、前記複数の微細孔を有する膜上に疎水性膜を形成することからなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
複数の微細孔を有する膜であって、微細孔のアスペクト比が0.1以上である膜と、前記膜上の疎水性膜と、からなるはっ水性被膜。
IPC (5件):
C09D201/00 ,  B32B 5/18 ,  C09D125/06 ,  C09D157/00 ,  C09K 3/18 101
FI (5件):
C09D201/00 ,  B32B 5/18 ,  C09D125/06 ,  C09D157/00 ,  C09K 3/18 101
Fターム (32件):
4F100AK01A ,  4F100AK02A ,  4F100AK04A ,  4F100AK12A ,  4F100AK15A ,  4F100AK25A ,  4F100AK52B ,  4F100BA02 ,  4F100DJ00A ,  4F100DJ10A ,  4F100GB07 ,  4F100GB32 ,  4F100JB06 ,  4F100JB06B ,  4F100JM02A ,  4F100JM02B ,  4H020BA02 ,  4J038CB021 ,  4J038CC031 ,  4J038CD031 ,  4J038CG141 ,  4J038CH031 ,  4J038JA02 ,  4J038JA26 ,  4J038JA33 ,  4J038MA07 ,  4J038MA09 ,  4J038NA07 ,  4J038PA15 ,  4J038PB05 ,  4J038PB07 ,  4J038PC08
引用特許:
審査官引用 (2件)

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