特許

J-GLOBAL ID：200903070441283982

光学異方体の製造方法及びそれに用いる配向膜形成材料

発明者： 長谷部 浩史 ,  高津 晴義
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-086348
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294940
出願日： 1994年04月25日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【構成】 ポリビニルアルコール及び一般式(I)【化1】(式中、Rは炭素原子数6〜16の2価の有機基を表わす)のジヒドロキシ化合物からなる配向膜形成用組成物、及びこれを用いることを特徴とする光学異方体の製造方法。【効果】 この配向膜形成用組成物は、液晶の良好な配向を与え、且つ重合性液晶組成物を用いた光学異方体の作製に際して、基板と光学異方体の剥離特性を改善できる。従って、これを用いて光学異方体の製造方法によって、均一で耐熱性に優れた光学異方体を、再現性良く製造することができる。

請求項（抜粋）：

(1)第1の基板上に、ポリビニルアルコール及び一般式(I)【化1】(式中、Rは炭素原子数6〜16の2価の有機基を表わす。)で表わされるジヒドロキシ化合物からなる配向層を形成する第1工程、(2)第2の基板上に配向処理を施す第2工程、(3)第1の基板の配向層と、第2の基板の配向処理を施した面を対向させて配置した後、これらの基板間に重合性液晶組成物を介在させる第3工程、(4)光を照射することによって前記重合性液晶組成物を重合させる第4工程、及び(5)第1の基板を剥離する第5工程を有することを特徴とする光学異方体の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/1337 520 ,  C09K 19/38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 複屈折板及び液晶表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-154055   出願人：オプトレックス株式会社
• 特開昭62-071905
  
• 特開昭62-218934
  
• 特開平1-282519