特許
J-GLOBAL ID：200903070450366289
ディスプレイ用可撓性基板の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志村 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-116536
公開番号（公開出願番号）：特開平10-293294
出願日： 1997年04月18日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：
【要約】【課題】 可撓性をもったディスプレイ用基板の製造方法を提供する。【解決手段】 アルミニウムなどの陽極酸化法による酸化が可能な金属からなり、所望の可撓性が得られる厚みをもった金属基板の上面を陽極酸化法で酸化し、金属基板層31と酸化層32とを得る。酸化層32をエッチングにより除去した後、金属基板層31の表面を再び陽極酸化して酸化層を形成し、これをエッチングで再び除去する。このような陽極酸化およびエッチングの工程を交互に繰り返すと、電解研磨により金属基板層31の表面が研磨される。所望の平坦度が得られたら、酸化層が形成されたところで処理を終了すれば、可撓性基板が得られる。この基板上にTFT素子などを形成すれば、可撓性をもったアクティブマトリックス基板を実現でき、耐久性のある液晶ディスプレイを実現できる。
請求項（抜粋）：
陽極酸化法による酸化が可能な金属からなり、所望の可撓性が得られる厚みをもった基板を用意し、この基板の少なくとも片面を陽極酸化して酸化層を形成し、金属基板層および酸化層の二層からなる基板を形成することを特徴とするディスプレイ用可撓性基板の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1333 500
, G09F 9/30 313
G02F 1/1333 500
, G09F 9/30 313 Z
