特許
J-GLOBAL ID:200903070496554624
基板処理装置及び基板搬送方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-115741
公開番号(公開出願番号):特開2005-019960
出願日: 2004年04月09日
公開日(公表日): 2005年01月20日
要約:
【課題】真空チャンバ間のゲートバルブを開放するときの衝撃波を抑えると共に真空チャンバ内にガスが供給されるときの粘性力によるパーティクルの剥がれを抑え、これにより基板に対するパーティクル汚染を抑えることができる基板処理装置および基板搬送方法を提供する。【解決手段】基板処理室2と基板搬送室3の間のゲートバルブGを開く前に両方の室内の圧力が66.5Paよりも低くかつ圧力検出値の高い方が低い方の2倍よりも小さいことを条件にゲートバルブGを開くようにする。この場合、基板処理室内に圧力調整用のパージガスを供給する前に圧力調整用のパージガスの流量よりも大きな流量でパーティクル剥離用のパージガスを供給することが好ましい。また両方の室内のいずれもが9.98Paよりも低いことを条件にゲートバルブGを開くことも有効である。【選択図】図15
請求項(抜粋):
共通の旋回中心の回りに旋回自在な第1及び第2の旋回部と、これら第1及び第2の旋回部に夫々進退自在に設けられ、同一平面上に位置する第1及び第2の基板保持部と、これら第1及び第2の基板保持部を夫々進退させる第1及び第2の進退駆動部と、前記第1及び第2の旋回部を夫々駆動するための第1及び第2の旋回駆動部と、を備えた基板搬送装置と、
前記基板搬送装置が設けられる搬送室と、
この搬送室の周囲に前記旋回中心を中心とする円に沿って配置されると共に、当該搬送室に接続され、前記基板搬送装置により基板の受け渡しが行われる基板処理室と、
前記搬送室の周囲に前記旋回中心を中心とする円に沿って配置されると共に、当該搬送室に接続され、前記基板搬送装置により基板の搬出入が行われる搬出入室と、
前記搬送室内における基板の搬送時間が前記基板処理室内における基板の処理時間よりも長い時に、第1及び第2の基板保持部により同時に基板処理室内の処理後の基板と搬出入室内の処理前の基板とを夫々受け取る動作を行い、次いで第1及び第2の基板保持部により同時に搬出入室内と基板処理室内とに対して、夫々処理後の基板と処理前の基板とを受け渡す動作を行うように、前記第1及び第2の進退駆動部と前記第1及び第2の旋回駆動部と、を制御する制御部と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
H01L21/68
, B65G49/00
, H01L21/02
FI (3件):
H01L21/68 A
, B65G49/00 C
, H01L21/02 Z
Fターム (21件):
5F031CA02
, 5F031DA01
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA43
, 5F031GA44
, 5F031GA47
, 5F031GA50
, 5F031JA10
, 5F031JA47
, 5F031KA12
, 5F031LA13
, 5F031MA04
, 5F031NA04
, 5F031NA05
, 5F031NA09
, 5F031PA03
, 5F031PA23
引用特許: