特許
J-GLOBAL ID：200903070509270906

誘電体セラミック原料粉体の製造方法

発明者：
廣田 益久

廣田 益久 について

, 
児島 昌造

児島 昌造 について

, 
薮内 正三

薮内 正三 について


出願人/特許権者：
株式会社村田製作所

株式会社村田製作所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006122
公開番号（公開出願番号）：特開2000-203942
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：
【要約】【課題】水溶媒を用いて防爆設備を必要としない安価な製造方法であって、不純物の混入を抑えた、添加元素が誘電体セラミック基本組成物粉体中に均一に分散した誘電体セラミック原料粉体の製造方法を提供する。【解決手段】誘電体セラミック基本組成物粉体の表面に添加金属元素の化合物を付着させた、誘電体セラミック原料粉体の製造方法において、(1)誘電体セラミック基本組成物粉体を水に分散させてスラリーとする工程、(2)Si化合物をスラリーに添加して、誘電体セラミック基本組成物粉体に付着させる工程、(3)Si化合物を付着させた誘電体セラミック基本組成物粉体を含むスラリーに、攪拌しながら、添加金属元素を含む溶液と、この金属元素と反応して沈殿を形成する沈殿剤とを添加する工程、(4)スラリーを洗浄し、その後乾燥させる工程、を備える。
請求項（抜粋）：
誘電体セラミック基本組成物粉体の表面に金属元素の化合物を付着させた誘電体セラミック原料粉体の製造方法において、(1)前記誘電体セラミック基本組成物粉体を水に分散させてスラリーとする工程、(2)前記化合物の1つであるSi化合物を前記スラリーに添加して、前記誘電体セラミック基本組成物粉体に付着させる工程、(3)前記Si化合物を付着させた誘電体セラミック基本組成物粉体を含むスラリーに、該スラリーを攪拌しながら、前記化合物を構成する金属元素を含む溶液と、該金属元素と反応して沈殿を形成する沈殿剤とを添加する工程、(4)前記スラリーを洗浄し、その後乾燥させる工程、を備える、誘電体セラミック原料粉体の製造方法。
IPC (5件)：
C04B 35/628 ,  C04B 35/495 ,  H01B 3/00 ,  H01G 4/12 364 ,  H01G 4/12 418
FI (5件)：
C04B 35/00 B ,  H01B 3/00 E ,  H01G 4/12 364 ,  H01G 4/12 418 ,  C04B 35/00 J
Fターム (29件)：
4G030AA08 ,  4G030AA09 ,  4G030AA10 ,  4G030AA16 ,  4G030AA17 ,  4G030BA09 ,  4G030GA07 ,  5E001AB00 ,  5E001AB03 ,  5E001AC09 ,  5E001AE00 ,  5E001AE01 ,  5E001AE02 ,  5E001AE03 ,  5E001AE04 ,  5E001AF06 ,  5E001AH00 ,  5E001AH08 ,  5E001AJ02 ,  5G303AA01 ,  5G303AA10 ,  5G303AB20 ,  5G303BA11 ,  5G303CA01 ,  5G303CB03 ,  5G303CB30 ,  5G303CB32 ,  5G303CB35 ,  5G303DA06
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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