特許

J-GLOBAL ID：200903070679897113

ガス処理装置

発明者： 倉橋 正人 ,  葛本 昌樹 ,  春田 健雄 ,  野田 清治 ,  アルカディ ガル
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 田澤 博昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-082230
公開番号（公開出願番号）：特開平11-276848
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 処理ガスに含まれる窒素酸化物の濃度が低減しにくいという課題や酸素を含んだ空気ベースの処理ガスに含まれている窒素酸化物の処理には、有効でないという課題があった。【解決手段】 平面状の高電圧電極32と、高電圧電極32から所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極33と、高電圧電極32と接地電極33との間に位置するセラミック板31と、高電圧電極32と接地電極33とで挟まれた放電空間38と、放電空間38に配置された、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤39とを有する放電プラズマ処理部2を備える。

請求項（抜粋）：

平面状の高電圧電極と、該高電圧電極から所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、該高電圧電極と該接地電極との間に位置する誘電体と、該高電圧電極と該接地電極とで挟まれた放電空間と、該放電空間に配置された、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤とを有する放電プラズマ処理部を備えたガス処理装置。

IPC (7件)：

B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ,  C01B 13/10 ,  C01B 21/02

FI (6件)：

B01D 53/34 129 C ,  B01D 53/32 ,  C01B 13/10 Z ,  C01B 21/02 Z ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 129 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-040365   出願人：三菱電機株式会社
• ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-254399   出願人：日新電機株式会社
• プラズマ化学反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-180282   出願人：株式会社東芝
• オゾン発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-047647   出願人：三菱電機株式会社