特許
J-GLOBAL ID：200903070720679632

ホトマスク及びそれを用いたコマ収差測定方法

発明者：
早野 勝也

早野 勝也 について

, 
長谷川 昇雄

長谷川 昇雄 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-204176
公開番号（公開出願番号）：特開平10-288567
出願日： 1997年07月30日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【解決手段】 半透明位相シフトマスクを用いて、パタンを形成する際に発生する第2の光強度ピークいわゆるサブピーク7、8の光強度が主パタン3を中心として対向する位置で異なる事を利用し、レンズ収差を高精度に評価する。【効果】 縮小投影露光装置に搭載されたレンズの種々の収差を高精度に測定できる。これによりレンズの修正、選定が可能となり、レンズの個体差を従来より小さくすることができる。特にレンズのコマ収差によるパタンの位置ずれを従来よりも低減でき、その結果、より高密度なパタンの配置が実現できた。また超LSI製品の不良率の低減を達成した。
請求項（抜粋）：
少なくとも露光光に対して半透明な領域と透明な領域を含み、上記半透明な領域と透明な領域を通過する光の位相差がおよそ180°となるようにしたホトマスクを用い縮小投影露光装置で転写したパタンの、マスク上の透明パタンに対応する主パタンの周囲のマスク上の半透明領域に対応する位置の一部に形成される、いわゆるサブピークの光強度が、前記主パタンを中心として対向する領域で異なる事を利用し、レンズの収差量を評価する事を特徴とするレンズ収差の測定方法。
IPC (4件)：
G01M 11/02 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G01M 11/02 B ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 516 Z
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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