特許

J-GLOBAL ID：200903070854293277

磁気記録媒体及びその製造方法

発明者： 川津 琢也 ,  石崎 修 ,  麿 毅 ,  大貫 健
出願人/特許権者： 日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 川北 喜十郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090018
公開番号（公開出願番号）：特開平9-259426
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 サーボ信号やアドレス情報を、高密度記録に対応した方法で記録できる磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 基板10上に、下地膜13、磁気記録膜14、磁性薄膜15、保護膜16及び潤滑材17が積層されてなる磁気記録媒体である。磁性薄膜15は、サーボピット等のピットパターンを有するマスクを透過した紫外線を、有機白金族化合物及び有機金属化合物の蒸気雰囲気に照射し、それらを磁気記録膜14上で光分解させることによって白金族元素と金属元素との合金薄膜として形成される。

請求項（抜粋）：

基板上に磁気記録膜が形成されてなる磁気記録媒体において、上記磁気記録膜上に白金族元素を含む磁性合金薄膜が形成され、該磁性合金薄膜が、サーボピット、アドレス情報用ピット及びディスクリートトラック用ガードバンドの少なくとも一種として機能するようにパターン化されていることを特徴とする上記磁気記録媒体。

IPC (8件)：

G11B 5/82 ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/48 ,  C23C 30/00 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/85 ,  H01F 10/16 ,  H01F 41/16

FI (8件)：

G11B 5/82 ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/48 ,  C23C 30/00 A ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/85 Z ,  H01F 10/16 ,  H01F 41/16

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 磁化膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-324223   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭59-082635
  
• 特開昭59-082635