特許

J-GLOBAL ID：200903070898939204

ポリシロキサン化合物及びポジ型レジスト材料

発明者： 竹村 勝也 ,  土谷 純司 ,  渡辺 修 ,  石原 俊信
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-270580
公開番号（公開出願番号）：特開平9-087391
出願日： 1995年09月25日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(I)で表されるポリシロキサン化合物。【化1】【効果】 本発明のポリシロキサン化合物は、ポジ型レジスト材料のアルカリ可溶性ポリマーとして有用であり、特に2層レジスト材料の化学増幅型シリコーン系ポジ型レジスト材料におけるアルカリ可溶性ポリマーとして使用されて、下層界面に裾ひき現象が生じたり、シリコーンレジスト膜表面に表面難溶層が生じるといった問題を解消し得る。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されるポリシロキサン化合物。【化1】

IPC (7件)：

C08G 77/14 NUG ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C08G 77/14 NUG ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-101427
  
• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-294009   出願人：日本電信電話株式会社