特許

J-GLOBAL ID：200903070922369929

基板処理装置

発明者： 芳谷 光明
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078972
公開番号（公開出願番号）：特開平9-270408
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】 設備の大型化を抑えた上で、基板の薬液処理部から水洗部への搬送時に、基板の主面の処理液の置換を確実に行わせ得るようにする。【解決手段】 搬送方向に対して直交した面内で水平方向に対して傾斜した基板搬送路を傾斜姿勢で搬送されつつある基板Bの主面に洗浄水Lを供給して所定の処理を施す基板処理装置であり、上記洗浄水Lを帯状で搬送方向に沿うように基板Bの主面に吐出する液吐出部材6が備えられ、この液吐出部材6は、傾斜姿勢の基板Bの上位側端縁に向けて洗浄水Lを吐出するように配設されている。

請求項（抜粋）：

搬送方向に直交する面内で水平方向に対して傾斜した基板載置面上を搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記基板載置面の上位側に液供給口が形成された処理液供給手段を備えていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 ,  B05C 11/08 ,  B08B 3/08 ,  G02F 1/1333 500 ,  B05C 5/02

FI (5件)：

H01L 21/304 341 N ,  B05C 11/08 ,  B08B 3/08 A ,  G02F 1/1333 500 ,  B05C 5/02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-095820   出願人：カシオ計算機株式会社

審査官引用 (1件)

• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-095820   出願人：カシオ計算機株式会社