特許

J-GLOBAL ID：200903070947072840

電子デバイス製造装置および電子デバイス製造方法

発明者： 真嶋 訓志 ,  野元 克彦
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-022274
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223424
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】 1つの真空容器内に複数対の電極を設置し、それぞれにプラズマの相互干渉を生じることなく高周波電力を印加すること。【解決手段】 内部に第1および第2対の対向電極を有する真空容器と、真空容器に材料ガスを導入するガス導入部と、第1および第2対の電極間にパルス変調した高周波電圧をそれぞれ印加してプラズマ放電させる第1および第2電源部とを備え、第1および第2電源部は変調パルスのオン時間が互いに重ならないように制御される。

請求項（抜粋）：

内部に第1および第2対の対向電極を有する真空容器と、真空容器に材料ガスを導入するガス導入部と、第1および第2対の電極間にパルス変調した高周波電圧をそれぞれ印加してプラズマ放電させる第1および第2電源部とを備え、第1および第2電源部は変調パルスのオン時間が互いに重ならないように制御される電子デバイス製造装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 B ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B

Fターム (34件)：

4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030BA31 ,  4K030FA03 ,  4K030JA11 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA05 ,  5F004DA06 ,  5F004DA07 ,  5F004DA10 ,  5F004DA16 ,  5F004DB01 ,  5F004DB03 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AC07 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AC19 ,  5F045DP11 ,  5F045DQ14 ,  5F045EH13 ,  5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマCVD法及びプラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-327198   出願人：日本電気株式会社
• 特開平1-137621
  
• プラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-076866   出願人：株式会社島津製作所
• プラズマCVD方法、その装置およびそれを用いた半導体装置の製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-314926   出願人：三菱電機株式会社, 旭硝子株式会社