特許

J-GLOBAL ID：200903070985921478

露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 村上 勝彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-184459
公開番号（公開出願番号）：特開2009-021496
出願日： 2007年07月13日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：

【課題】露光装置の性能の低下、稼動率の低下を抑制して、基板を良好に露光できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、極端紫外域の露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光をパルス状に発光する光源装置と、露光光が進行するほぼ真空状態の第1空間を形成する第1部材と、露光光が通過するように第1部材の少なくとも一部に形成された第1開口と、発光と同期して第1開口を開閉する開閉機構とを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

極端紫外域の露光光で基板を露光する露光装置であって、 前記露光光をパルス状に発光する光源装置と、 前記露光光が進行するほぼ真空状態の第1空間を形成する第1部材と、 前記露光光が通過するように前記第1部材の少なくとも一部に形成された第1開口と、 前記発光と同期して前記第1開口を開閉する開閉機構と、を備えた露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H05G 2/00

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  H05G1/00 K

Fターム (12件)：

2H097BA02 ,  2H097CA06 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  4C092AA06 ,  4C092AB19 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09 ,  5F046GA07 ,  5F046GB05 ,  5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• EUV光源、露光装置及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-195019   出願人：株式会社ニコン