特許

J-GLOBAL ID：200903070991846968

ビーム合成装置及びこの装置を具える画像投射装置

発明者： ウォルテル フランシスカス ヨハネス マリア
出願人/特許権者： フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-528815
公開番号（公開出願番号）：特表平9-512924
出願日： 1995年05月03日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：

【要約】異なるカラーの少なくとも2本のサブビーム(bG,bR,bB)を1本のカラービーム(bc)に合成する光学装置について説明する。この光学装置は、透明なプレート状の基板(20,22)上に配置した少なくとも1個のカラー選択性反射器(21,23)を具える。シリンドリカルレンズと傾斜配置した球面レンズのグループから選択される第1のサブ素子と、平行平面板,楔及びプリズムから選択される第2のサブ素子とから構成される補正素子(45a,45b)を用いることにより、基板をサブビーム中に配置することにより生ずる収差を補正する。

請求項（抜粋）：

異なるカラーの少なくとも2本のサブビームを1本のカラービームに合成する光学装置であって、透明なプレート状の基板に配置した少なくとも1個のカラー選択性反射器を具えると共に、前記基板を横切るサブビームの光路に配置した少なくとも1個の補正素子が設けられている光学装置において、前記補正素子がシリンドリカルレンズ及び傾斜配置した球面レンズのグループから選択した第1のサブ素子と、平行平面板、楔及びプリズムのグループから選択した第2のサブ素子とを具え、これらサブ素子が一緒になって、前記サブビームが基板を透過することにより導入された少なくとも非点収差及びコマ収差を補正することを特徴とする光学装置。

IPC (2件)：

G02B 27/10 ,  G02B 27/18

FI (2件)：

G02B 27/10 ,  G02B 27/18 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 投射型表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-266008   出願人：パイオニア株式会社
• 結像光学系
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-087340   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-170925
  
• 特開平4-149426