特許
J-GLOBAL ID:200903070992436496
フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-203020
公開番号(公開出願番号):特開2001-033959
出願日: 1999年07月16日
公開日(公表日): 2001年02月09日
要約:
【要約】【課題】 感光性及び加工性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記成分(A)(a)ジエポキシドのエポキシ基1モルに対して1分子中に平均1個のカルボキシル基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量72〜1000のエチレン性不飽和カルボン酸0.8〜1.2モルを反応させてなる水酸基含有不飽和樹脂、(b)カルボキシル基含有ジオール化合物、(c)ジイソシアネート化合物及び(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂及び(B)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
請求項(抜粋):
下記成分(A)(a)ジエポキシドのエポキシ基1モルに対して1分子中に平均1個のカルボキシル基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量72〜1000のエチレン性不飽和カルボン酸0.8〜1.2モルを反応させてなる水酸基含有不飽和樹脂、(b)カルボキシル基含有ジオール化合物、(c)ジイソシアネート化合物及び(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂及び(B)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
IPC (4件):
G03F 7/027 515
, G03F 7/027 513
, C08F299/06
, H05K 3/28
FI (4件):
G03F 7/027 515
, G03F 7/027 513
, C08F299/06
, H05K 3/28 D
Fターム (48件):
2H025AA01
, 2H025AA13
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BC14
, 2H025BC66
, 2H025BC81
, 2H025BC85
, 2H025BC86
, 2H025BC92
, 2H025EA04
, 2H025FA07
, 2H025FA10
, 2H025FA17
, 4J027AG03
, 4J027AG04
, 4J027AG09
, 4J027AG10
, 4J027AG13
, 4J027AG14
, 4J027AG23
, 4J027AG24
, 4J027AG25
, 4J027AG27
, 4J027AG28
, 4J027BA04
, 4J027BA05
, 4J027BA08
, 4J027BA09
, 4J027BA12
, 4J027BA14
, 4J027BA19
, 4J027BA24
, 4J027CA14
, 4J027CA25
, 4J027CA32
, 4J027CC05
, 4J027CD10
, 5E314AA27
, 5E314AA32
, 5E314AA38
, 5E314CC01
, 5E314CC15
, 5E314FF05
, 5E314FF19
, 5E314GG24
引用特許:
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