特許
J-GLOBAL ID:200903071040887571

マイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-123879
公開番号(公開出願番号):特開2008-281368
出願日: 2007年05月08日
公開日(公表日): 2008年11月20日
要約:
【課題】本発明の目的は反応や分析のステップ数や量を制限しない、且つ、製造が容易であるマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法を提供することである。【解決手段】少なくとも、(イ)第一の支持体に少なくとも一つの中空フィラメントを任意の形状に固定する工程、(ロ)中空フィラメント内の全部または一部にモノリス前駆体を充填する工程、(ハ)モノリス前駆体の全部または一部を反応させ、モノリス構造体を作製する工程、を備えることを特徴としたマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
少なくとも以下の(イ)から(ハ)の工程を備えることを特徴としたマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。 (イ)第一の支持体に少なくとも一つの中空フィラメントを任意の形状に固定する工程 (ロ)中空フィラメント内の全部または一部にモノリス前駆体を充填する工程 (ハ)モノリス前駆体の全部または一部を反応させ、モノリス構造体を作成する工程
IPC (7件):
G01N 30/60 ,  G01N 35/08 ,  B01J 19/00 ,  B81C 5/00 ,  B81B 1/00 ,  G01N 37/00 ,  G01N 30/88
FI (10件):
G01N30/60 D ,  G01N35/08 A ,  B01J19/00 321 ,  B81C5/00 ,  B81B1/00 ,  G01N37/00 101 ,  G01N30/60 K ,  G01N30/88 201X ,  G01N30/88 201G ,  G01N30/88 101P
Fターム (19件):
2G058DA07 ,  2G058DA09 ,  3C081AA11 ,  3C081BA11 ,  3C081BA23 ,  3C081CA25 ,  3C081DA21 ,  3C081EA27 ,  3C081EA28 ,  4G075AA13 ,  4G075AA39 ,  4G075BA10 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21 ,  4G075FA01 ,  4G075FA11 ,  4G075FA12 ,  4G075FB01 ,  4G075FB12
引用特許:
審査官引用 (5件)
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