特許
J-GLOBAL ID：200903071046526910
微細凹凸パターンを有する素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-215008
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052114
出願日： 1997年08月08日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【目的】 球面、非球面を問わず、さらに非球面が回転対称であると否とを問わず、任意の基礎曲面(平面を含む)上に微細凹凸パターンを形成できる素子(レンズ、ミラー、成形型等)の製造方法を得る。【構成】 素子素材に、その上に微細凹凸パターンを形成する基礎曲面を加工する工程;加工した基礎曲面上に、微細凹凸パターンの凸部に対応するマスクを形成するマスク形成工程;このマスク以外の部分の素子素材の基礎曲面表面を除去して凹部とする凹部加工工程;及び基礎曲面表面に残ったマスクを除去するマスク除去工程;を有し、必要に応じ、マスク形成工程、凹部加工工程及びマスク除去工程を複数回実行する微細凹凸パターンを有する素子の製造方法。
請求項（抜粋）：
素子素材に、その上に微細凹凸パターンを形成する基礎曲面を加工する工程;加工した基礎曲面上に、微細凹凸パターンの凸部に対応するマスクを形成するマスク形成工程;このマスク以外の部分の素子素材の基礎曲面表面を除去して凹部とする凹部加工工程;及び基礎曲面表面に残ったマスクを除去するマスク除去工程;を有することを特徴とする微細凹凸パターンを有する素子の製造方法。
引用特許：
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