特許
J-GLOBAL ID：200903071074986455
炭素-炭化ケイ素複合材料及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶 良之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-031114
公開番号（公開出願番号）：特開平10-212182
出願日： 1997年01月29日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：
【要約】【課題】 高強度用炭素基材の所定部位(摺動部分)の表層部にSiC層が深めに形成されてなる、摺動封止用部材に適した新規な炭素-炭化ケイ素複合材料及びその製造方法を提供する。【解決手段】 高強度用炭素基材の少なくとも相手材と接する部分(摺動部分)の表層部をケイ化処理してなる炭素-炭化ケイ素複合材料であって、該表層部の炭化ケイ素層が少なくとも1mm以上の深さに形成されると共に、該炭化ケイ素層における炭化ケイ素質部分の均一分散性が深さ方向に沿っても確保されてなることを特徴とする。また、製造方法は、高強度用炭素基材の前記摺動部分の表面にケイ素粉末、炭化ホウ素粉末及びバインダーからなるスラリーを塗布し、乾燥した後、10Torr以下の非酸化性雰囲気中で1500°C以上に熱処理するものである。
請求項（抜粋）：
高強度用炭素基材の少なくとも相手材と接する部分(摺動部分)の表層部をケイ化処理してなる炭素-炭化ケイ素複合材料であって、該表層部の炭化ケイ素層が少なくとも1mm以上の深さに形成されると共に、該炭化ケイ素層における炭化ケイ素質部分の均一分散性が深さ方向に沿っても確保されてなることを特徴とする炭素-炭化ケイ素複合材料。
IPC (6件)：
C04B 41/87
, F16J 1/02
, F16J 9/26
, F16J 10/00
, C04B 35/52
, F16J 15/34
C04B 41/87 V
, F16J 1/02
, F16J 9/26 Z
, F16J 10/00 A
, F16J 15/34 F
, C04B 35/52 G
