特許
J-GLOBAL ID:200903071091609266

配管表面の凹凸測定方法及び測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小橋 信淳 ,  小橋 立昌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-269816
公開番号(公開出願番号):特開2004-108870
出願日: 2002年09月17日
公開日(公表日): 2004年04月08日
要約:
【課題】管周方向或いは二次元的な分布を有する測定対象に対して、健全領域表面を基準にする凹凸量を正確に測定することが可能であり、また、配管に対して精度の高い位置決めを行うことなしに、測定された変位量から簡便に凹凸量を求める。【解決手段】走査部Aは、被測定領域Sに対して管軸PO方向に配置される直線レール1と、変位計2とを備えた一次走査手段を駆動する一次走査機構3と、配管Pの周方向に沿って巻かれた一対のベルト4によって直線レール1の両端を支持して、直線レール4を配管Pの周方向に沿って一走査単位毎に平行移動させる二次走査機構5とからなり、一次走査手段と二次走査機構5による平行移動とによって、二次元的な走査を行う。測定データは演算処理部Bで演算処理され出力が表示部Cに表示される。演算処理部Bでは、変位量のデータを記憶させるデータ記憶手段8と、各走査位置毎の凹凸量を求める演算処理手段9とを備える。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
配管表面の健全領域を含む被測定領域を設定し、該配管の管軸方向に配置した直線レールに沿って変位計を走査させて、前記被測定領域における変位量を走査位置に対応させて測定する一次走査手順と、前記直線レールを前記配管の周方向に沿って一走査単位だけ平行移動させる二次走査手順とからなり、前記一次走査手順と前記二次走査手順との繰り返しによって前記被測定領域に対する二次元的な走査を行う走査工程と、 前記一次走査手順の一走査で測定された変位量毎に、該変位量と走査位置との関係から直線的な基準を求める基準設定手順を行った後、該基準と前記測定された変位量との偏差によって各走査位置毎の凹凸量を求める凹凸量算出手順を行い、前記走査工程で測定された全ての変位量から前記凹凸量を求める演算処理工程とからなることを特徴とする配管表面の凹凸測定方法。
IPC (1件):
G01B21/18
FI (1件):
G01B21/18
Fターム (20件):
2F069AA43 ,  2F069AA60 ,  2F069CC02 ,  2F069DD19 ,  2F069DD24 ,  2F069EE12 ,  2F069EE23 ,  2F069GG04 ,  2F069GG30 ,  2F069GG52 ,  2F069GG62 ,  2F069GG72 ,  2F069HH09 ,  2F069JJ06 ,  2F069JJ07 ,  2F069JJ25 ,  2F069NN13 ,  2F069NN25 ,  2F069QQ05 ,  2F069QQ07
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開昭57-175255
  • 特開平3-033608
  • 特開昭57-175255
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