特許
J-GLOBAL ID:200903071103827841

ワークエッジの鏡面研磨方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 林 宏 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-260917
公開番号(公開出願番号):特開平11-048109
出願日: 1997年09月09日
公開日(公表日): 1999年02月23日
要約:
【要約】【課題】 ワークの外周エッジを複数点において効率良く短時間で鏡面研磨することが可能な、加工効率の勝れた小形の研磨手段を得る。【解決手段】 外周に研磨用作業面2aを備えた2つの円筒形研磨ドラム2,2をワーク7の直径より小さい間隔を保って配設し、これらの研磨ドラム2,2を所要の速度で回転させながら、ワーク保持手段3aに保持させたワークの外周の面取りされたエッジ7aを両研磨ドラムに同時に押し付けることにより、該エッジ7aを異なる2点で鏡面研磨する。
請求項(抜粋):
ワークの直径より小さい間隔を保って位置する複数の円筒形研磨ドラムを所要の速度で回転させる工程;面取りした外周エッジを表裏面に有する円板形ワークを所要の速度で回転させながら、表面側のエッジを複数の研磨ドラムの外周の作業面に同時に接触させて研磨する工程;上記ワークを表裏反転させる工程;反転したワークを所要の速度で回転させながら、裏面側のエッジを複数の研磨ドラムの作業面に同時に接触させて研磨する工程;を有することを特徴とするワークエッジの鏡面研磨方法。
IPC (3件):
B24B 9/00 601 ,  H01L 21/304 301 ,  H01L 21/304 321
FI (3件):
B24B 9/00 601 G ,  H01L 21/304 301 B ,  H01L 21/304 321 E
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開平3-208550
  • 特開昭52-032668
  • ウェーハ外周部の研磨装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-054478   出願人:信越半導体株式会社, 不二越機械工業株式会社
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