特許
J-GLOBAL ID:200903071197224266
磁気デバイス
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-283068
公開番号(公開出願番号):特開平8-148334
出願日: 1994年11月17日
公開日(公表日): 1996年06月07日
要約:
【要約】【目的】 信頼性に優れているとともに、高精度な加工が容易な磁性薄膜パターンを有する磁気デバイスを提供する。【構成】 Fe、Co、Niから選択される少なくとも1種の元素を含有する磁性薄膜(3)のパターンと、磁性薄膜(3)のパターンの側壁上に直接被着された第1の被着膜(4)と、第1の被着膜(4)の外側に被着された、第1の被着膜(4)と材質または構造が異なる第2の被着膜(5)とを有する。
請求項(抜粋):
Fe、Co、Niから選択される少なくとも1種の元素を含有する磁性薄膜のパターンと、前記磁性薄膜のパターンの側壁上に直接被着された第1の被着膜と、前記第1の被着膜の外側に被着された第2の被着膜とを具備したことを特徴とする磁気デバイス。
IPC (4件):
H01F 10/00
, G01R 33/09
, G11B 5/31
, H01L 43/08
引用特許: