特許
J-GLOBAL ID:200903071197224266

磁気デバイス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-283068
公開番号(公開出願番号):特開平8-148334
出願日: 1994年11月17日
公開日(公表日): 1996年06月07日
要約:
【要約】【目的】 信頼性に優れているとともに、高精度な加工が容易な磁性薄膜パターンを有する磁気デバイスを提供する。【構成】 Fe、Co、Niから選択される少なくとも1種の元素を含有する磁性薄膜(3)のパターンと、磁性薄膜(3)のパターンの側壁上に直接被着された第1の被着膜(4)と、第1の被着膜(4)の外側に被着された、第1の被着膜(4)と材質または構造が異なる第2の被着膜(5)とを有する。
請求項(抜粋):
Fe、Co、Niから選択される少なくとも1種の元素を含有する磁性薄膜のパターンと、前記磁性薄膜のパターンの側壁上に直接被着された第1の被着膜と、前記第1の被着膜の外側に被着された第2の被着膜とを具備したことを特徴とする磁気デバイス。
IPC (4件):
H01F 10/00 ,  G01R 33/09 ,  G11B 5/31 ,  H01L 43/08
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭54-104812
  • 特開平2-165406
  • 微細導電パターンの形成方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-332510   出願人:ミツミ電機株式会社
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