特許
J-GLOBAL ID：200903071305775541
反射膜の製造方法、レーザ装置、及び光学装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-209020
公開番号（公開出願番号）：特開2000-332342
出願日： 1999年07月23日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【課題】 実際の使用環境に近い条件で半導体レーザ装置の特性評価を行うことが可能な反射膜の製造方法を提供する【解決手段】 屈折率n0の光学媒質を準備する。反射すべき光の波長λを決定する。基準屈折率ns1とns2とを決定する。光学媒質の反射面の表面上に、屈折率n1の第1の層と屈折率n2の第2の層とを交互にk組成膜する。第1の層の膜厚は、λ/4+(λ/2)×N1)/n1 (N1は0または正の整数)であり、第2の層の膜厚は、(λ/4+(λ/2)×N2)/n2となる。屈折率n1の第3の層の膜厚をd3としたとき、d3=d+(λ/2n1)×N3及び【数1】を満足するように第3の層の膜厚d3を決定する。
請求項（抜粋）：
反射面を有する屈折率n0の光学媒質を準備する工程と、反射すべき光の波長λを決定する工程と、相互に異なる2つの基準屈折率ns1とns2とを決定する工程と、前記光学媒質の反射面の表面上に、屈折率n1の第1の層と屈折率n2の第2の層とを交互にk組(kは正の整数)成膜する工程であって、該第1の層の膜厚が、【数1】(λ/4+(λ/2)×N1)/n1 (N1は0または正の整数)となり、該第2の層の膜厚が、【数2】(λ/4+(λ/2)×N2)/n2 (N2は0または正の整数)となるように成膜する工程と、屈折率n1の第3の層の膜厚をd3としたとき、【数3】d3=d+(λ/2n1)×N3 (N3は0または正の整数)及び【数4】を満足するように該第3の層の膜厚d3を決定する工程と、最上の第2の層の表面上に、前記第3の層の膜厚d3を決定する工程で決定された膜厚を有する第3の層を成膜する工程とを有する反射膜の製造方法。
IPC (4件)：
H01S 5/028
, G02B 5/08
, G02B 5/26
, G02B 5/28
H01S 3/18 618
, G02B 5/08 A
, G02B 5/26
, G02B 5/28
2H042DA08
, 2H042DA12
, 2H042DC02
, 2H042DC03
, 2H042DE07
, 2H048FA24
, 2H048GA07
, 2H048GA36
, 2H048GA46
, 2H048GA61
, 5F073AA83
, 5F073AB28
, 5F073CB20
, 5F073DA33
, 5F073FA07
, 5F073FA29
