特許

J-GLOBAL ID：200903071358188842

ウェーハの位置合わせ方法

発明者： ▲廣▼沼 昌之
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-028006
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222611
出願日： 1995年02月16日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】 ウェーハのプローブ検査においてプローブの接触位置のずれによる測定ミスを防止する。【構成】 XYテーブル12とその上に回動自在に配設された測定ステージ11とパターン認識手段とを有するプローブ装置におけるウェーハ自動位置合わせにおいて、位置補正に使用する基準パターン2Aa/2Ba とは異なるパターンを選んで補助パターン2Bb とし、これとXYテーブル12上に固定された部材に設けた固定パターン13m とをそれぞれ認識して補助パターン2Bb ・固定パターン13m 間の距離を算出するようにし、先頭のウェーハ1と二枚目以降のウェーハ1との基準パターン2Aa/2Ba の座標の差と補助パターン2Bb ・固定パターン13m 間の距離の差とを照合することにより、位置補正時の基準パターン2Aa/2Ba 誤認識の有無をチェックする。

請求項（抜粋）：

ウェーハの一面に形成されたチップの電気的特性を測定するに際して、X及びY軸方向に可動のXYテーブルと該XYテーブル上に回動自在に配設された測定ステージとパターン認識手段とを有するプローブ装置の該測定ステージ上に載置された該ウェーハの位置を合わせる方法であって、先頭ウェーハにおいて、第一のチップ内の任意のパターンを基準パターンと定めてこれを記憶する工程と、第二のチップ内の該基準パターンと同一のパターンを認識して該ウェーハの角度ずれを補正する工程と、該ウェーハ上に該基準パターンとは離隔して配置された任意のパターンを補助パターンと定めてこれを記憶する工程とを有し、二枚目以降の一ウェーハにおいて、前記第一及び第二のチップ内の前記基準パターンを認識して該ウェーハの位置ずれを補正する工程と、該ウェーハにおける前記補助パターンを認識する工程と、該ウェーハにおける該基準パターンと該補助パターンとの位置関係を前記先頭ウェーハにおける該位置関係と照合する工程とを有することを特徴とするウェーハの位置合わせ方法。

IPC (2件)：

H01L 21/66 ,  G01R 31/26

FI (3件)：

H01L 21/66 B ,  H01L 21/66 H ,  G01R 31/26 J

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ウェーハパターン装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-298404   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭63-136542
  
• 特開昭63-136542