投影光学系の収差測定方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-339703
公開番号（公開出願番号）：特開平10-176974
出願日： 1996年12月19日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：

【要約】【課題】投影光学系等の像の非対称量を求める際に走査型電子顕微鏡等の複雑な顕微鏡を用いずに、高速且つ高精度に投影光学系等の収差量を計測する。【解決手段】投影光学系の収差量を測定する収差測定方法であって、ラインアンドスペースパターンと孤立線パターンのいずれかを含むパターンを施したマスクを該投影光学系の光路中に配置する工程と、レジストが塗布された基板を該投影光学系の投影位置に配置する工程と、前記パターンを該投影光学系で該基板のレジスト上に投影して露光する工程と、該露光された基板を現像する工程と、該現像する工程により基板上に形成されたレジストによるラインアンドスペースパターンの像又は孤立線パターンの像の位置のずれの量を測定する工程とを備える収差測定方法と、その方法に用いるパターンを施したマスク。これにより、電子顕微鏡を用いることなく収差量を迅速かつ高精度に計測できる。

請求項（抜粋）：

投影光学系の収差量を測定する収差測定方法であって、ラインアンドスペースパターンと孤立線パターンのいずれかを含むパターンを施したマスクを該投影光学系の光路中に配置する工程と、レジストが塗布された基板を該投影光学系の投影位置に配置する工程と、前記パターンを該投影光学系で該基板のレジスト上に投影して露光する工程と、該露光された基板を現像する工程と、該現像する工程により基板上に形成されたレジストによるラインアンドスペースパターンの像又は孤立線パターンの像の位置のずれの量を測定する工程とを備える、収差測定方法。

IPC (2件)：

G01M 11/00 , G01M 11/02

FI (2件)：

G01M 11/00 T , G01M 11/02 B

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭63-132428
特表平7-502380
特公昭63-038697

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審査官引用 (8件)

特開昭63-132428
特公昭63-038697
特表平7-502380

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