特許
J-GLOBAL ID：200903071429402107
カラーフィルタの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-173205
公開番号（公開出願番号）：特開2004-020745
出願日： 2002年06月13日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】本発明は、コストが安く、かつ形成が容易な高精細なパターンが形成可能であるカラーフィルタの製造方法の提供が望まれている【解決手段】本発明は、(1)透明基材上に遮光部を形成する工程と、(2)前記透明基材上の遮光部が形成された側の面上に、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を有する形成する工程と、(3)光触媒を含有する光触媒含有層が基体上に形成されてなる光触媒含有層側基板の光触媒含有層と前記濡れ性変化層とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記濡れ性変化層にエネルギー照射前と比較して液体との接触角が低下した親液性領域からなる画素部形成部をパターン状に形成する工程と、(4)この画素部形成部にインクジェット方式で着色し、画素部を形成する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供することにより上記目的を達成するものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
(1)透明基材上に遮光部を形成する工程と、
(2)前記透明基材上の遮光部が形成された側の面上に、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する工程と、
(3)光触媒を含有する光触媒含有層が基体上に形成されてなる光触媒含有層側基板の光触媒含有層と前記濡れ性変化層とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記濡れ性変化層にエネルギー照射前と比較して液体との接触角が低下した親液性領域からなる画素部形成部をパターン状に形成する工程と、
(4)前記画素部形成部にインクジェット方式で着色し、画素部を形成する工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
IPC (3件)：
G02B5/20
, B41J2/01
, G02F1/1335
G02B5/20 101
, G02F1/1335 505
, B41J3/04 101Z
2C056FB01
, 2H048BA02
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB28
, 2H048BB42
, 2H091FA02X
, 2H091FA02Y
, 2H091FA02Z
, 2H091FC00
, 2H091FD04
, 2H091GA01
, 2H091LA12
, 2H091LA15
, 2H091LA30
