特許
J-GLOBAL ID:200903071494223686

ポリベンザゾール前駆体フィルム、ポリベンザゾールフィルム及びそれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-168084
公開番号(公開出願番号):特開2004-107621
出願日: 2003年06月12日
公開日(公表日): 2004年04月08日
要約:
【課題】強く配向されて優れた異方性機能を発現できるポリベンザゾール前駆体フィルム、ポリベンザゾールフィルム及びそれらの製造方法を提供する。【解決手段】ポリベンザゾール前駆体フィルムは例えば下記一般式(1)で示す繰り返し単位を有するポリベンザゾール前駆体により形成され、ポリベンザゾール前駆体の分子が強く配向されている。ポリベンザゾールフィルムは例えば下記一般式(3)で示す繰り返し単位を有するポリベンザゾールにより形成され、ポリベンザゾールの分子が強く配向されている。【化1】(但し、式中のXはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1及びAr2は芳香族炭化水素基をそれぞれ表し、nは10〜500の整数である。)【化2】(但し、式中のYはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表す。Ar1及びAr2は芳香族炭化水素基をそれぞれ表し、nは10〜500の整数である。)【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)又は(2)で示される繰り返し単位を有するポリベンザゾール前駆体により形成され、磁場又は電場が印加されることによりポリベンザゾール前駆体の分子が配向され、異方性機能を発現するように構成することを特徴とするポリベンザゾール前駆体フィルム。
IPC (2件):
C08G73/06 ,  C08J5/18
FI (2件):
C08G73/06 ,  C08J5/18
Fターム (48件):
4F071AA58 ,  4F071AF36 ,  4F071AG13 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC07 ,  4J043PA04 ,  4J043PC035 ,  4J043PC036 ,  4J043PC145 ,  4J043PC146 ,  4J043QB34 ,  4J043QB35 ,  4J043QB41 ,  4J043RA42 ,  4J043RA52 ,  4J043RA57 ,  4J043TA12 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA142 ,  4J043UA152 ,  4J043UB012 ,  4J043UB021 ,  4J043UB052 ,  4J043UB061 ,  4J043UB062 ,  4J043UB121 ,  4J043UB122 ,  4J043UB151 ,  4J043UB152 ,  4J043UB281 ,  4J043UB282 ,  4J043UB301 ,  4J043UB302 ,  4J043VA012 ,  4J043VA022 ,  4J043VA052 ,  4J043VA062 ,  4J043YA30 ,  4J043ZA51 ,  4J043ZB11 ,  4J043ZB13 ,  4J043ZB21 ,  4J043ZB50
引用特許:
審査官引用 (5件)
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