特許
J-GLOBAL ID：200903071516123559

浸漬塗布法による電荷発生層形成方法

発明者：
穂積 正彦

穂積 正彦 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (1件)： 渡部 剛 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-064189
公開番号（公開出願番号）：特開平9-258463
出願日： 1996年03月21日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】塗布ムラ(筋状の段ムラ)を改善した電子写真感光体の作製におけるオーバーフロー方式の浸漬塗布法を提供する。【解決手段】塗布槽4内の塗布液に被塗布物を浸漬することにより電子写真感光体の電荷発生層を形成するに際して、前記塗布槽に送り込まれる塗布液の流量が下記式(1)を満たすように塗布液を循環させることを特徴とする。【数1】(ここで、R=塗布液の流量(mm3 /s)、S=塗布槽の上端部での塗布液表面積(mm2 )、D=被塗布物の直径(mm)、V=塗布速度(mm/s))
請求項（抜粋）：
塗布槽内の塗布液に被塗布物を浸漬することにより電子写真感光体の電荷発生層を形成するに際して、前記塗布槽に送り込まれる塗布液の流量が下記式(1)を満たすように塗布液を循環させることを特徴とする浸漬塗布法による電荷発生層形成方法。【数1】ここで、R=塗布液の流量(mm3 /s)S=塗布槽の上端部での塗布液表面積(mm2 )D=被塗布物の直径(mm)V=塗布速度(mm/s)
IPC (2件)：
G03G 5/05 102 ,  B05D 1/18
FI (2件)：
G03G 5/05 102 ,  B05D 1/18
引用特許：
審査官引用 (4件)
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