特許

J-GLOBAL ID：200903071540735565

表面処理装置、光学素子成形用型及び光学素子

発明者： 五十川 征史
出願人/特許権者： オリンパス株式会社
代理人 (6件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫 ,  増井 裕士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-263874
公開番号（公開出願番号）：特開2008-081797
出願日： 2006年09月28日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：

【課題】被処理体の表面の所望の位置に所望の密着強度を有する表面処理を行うことができる表面処理装置、及びそれによって表面処理された光学素子成形用型、さらにこの光学素子成形用型から製造された光学素子を提供すること。【解決手段】絶縁物を介してトリガー電極と接続されたターゲットと、ターゲットの周囲にアーク放電を誘起させるアーク電極とを有し、アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマ8をターゲットの先端方向に放出する蒸着源10と、蒸着源10近傍におけるプラズマ8の放出方向に対して傾いて配されたキュベット心金母材11に向かって、プラズマ8の進行方向を偏向させる偏向部13とを備え、偏向部13が、キュベット心金母材11の表面に可変の磁束密度分布を生じさせて、プラズマ8に空間磁場を与える磁場付与部21を備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

絶縁物を介してトリガー電極と接続されたターゲットと、該ターゲットの周囲にアーク放電を誘起させるアーク電極とを有し、前記アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマを前記ターゲットの先端方向に放出する蒸着源と、 前記蒸着源近傍における前記プラズマの放出方向に対して傾いて配された被処理体に向かって、前記プラズマの進行方向を偏向させる偏向部とを備え、 該偏向部が、前記被処理体表面に可変の磁束密度分布を生じさせて、前記プラズマに空間磁場を与える磁場付与部を備えていることを特徴とする表面処理装置。

IPC (2件)：

C23C 14/32 ,  G02B 3/00

FI (2件)：

C23C14/32 Z ,  G02B3/00 Z

Fターム (6件)：

4K029AA02 ,  4K029BA02 ,  4K029BD03 ,  4K029CA03 ,  4K029CA13 ,  4K029DD06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-014352   出願人：株式会社アルバック