薄膜形成装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-318824
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163417
出願日： 1992年11月27日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：

【要約】【目的】基板への薄膜形成後膜表面へのダスト発生や膜特性劣化を防止し、また基板表面の異種材料に起因する下地依存性による膜特性不均一を防止する。【構成】成膜処理室26で成膜した基板21を有機分子層形成室37に送り込み、有機液体材料を封入した有機液体容器34にバブリングガスを送り込み、有機材料ガス供給管38を介して有機材料ガスとバブリングガスの混合ガスを供給するなどの手段によって有機分子層形成材料を有機分子層形成室37に供給し、基板21上の薄膜表面に疎水性の有機分子層を形成し、薄膜の吸湿を防止し、ダスト発生や膜特性劣化を防止し、また下地依存性を無くす。

請求項（抜粋）：

搬入された基板上に薄膜を形成し又は基板上の薄膜にパターンエッチングを行う処理室を備え、基板表面にシリコン又はゲルマニウムを含む有機分子層を形成する材料を供給する手段を備えた有機分子層形成室を処理室に連結又は隣接して配設したことを特徴とする薄膜形成装置。

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-124048
特開平3-152957
特開平4-073953

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