特許
J-GLOBAL ID：200903071639845478
整列マーク並びにこれを用いた露光整列システム及び整列方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-215049
公開番号（公開出願番号）：特開2002-231620
出願日： 2001年07月16日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
要約：
【要約】【課題】 露光整列システムのマスクに対応してウェーハを整列位置させるようにするための整列マーク並びにこれを用いた露光整列システム及び整列方法を提供すること。【解決手段】 化学的機械的ポリシング工程が適用される層の下部層内にメサまたはトレンチ形状の単位マークが所定間隔で複数個配列されていて整列工程のときに整列信号を形成する整列マークにおいて、単位マーク内に化学的機械的ポリシング工程のときにディッシング現象を防止する程度の密度にして、少なくとも一つ以上のメサまたはトレンチパターンをインライン配列して整列マークを形成する。波長の異なる第1、および第2プローブ光照射手段を有し、単位マークおよびメサまたはトレンチパターンを照射し、それぞれの回折遮光を得てウェーハを整列位置させる。
請求項（抜粋）：
化学的機械的ポリシング工程が適用される層の下部層内にメサまたはトレンチ形状の単位マークが所定間隔に複数個配列されていて整列工程のときに整列信号を形成する整列マークにおいて、前記単位マーク内に化学的機械的ポリシング工程のときにディッシング現象を防止できる程度の密度に少なくとも一つ以上のメサまたはトレンチパターンがインライン配列されて形成されることを特徴とする整列マーク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 9/00 H
, H01L 21/30 522 D
5F046EA07
, 5F046EA09
, 5F046EA17
