特許
J-GLOBAL ID：200903071658179250

低反射積層体及び低反射積層体の製造方法

発明者：
瀧本 正高

瀧本 正高 について

, 
川上 壮太

川上 壮太 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタオプト株式会社

コニカミノルタオプト株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-426548
公開番号（公開出願番号）：特開2005-181940
出願日： 2003年12月24日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】 本発明の目的は、十分に低い反射率を有し、かつ耐傷性、耐クラック性、密着性が改善された低反射防積層体及び低反射積層体の製造方法を提供することにある。【解決手段】 基材上に少なくとも二層の低屈折率層を有する低反射積層体であって、該少なくとも二層の低屈折率層の基材側の層の微粒子含有率をA、表面側の層の微粒子含有率をBとした時に下記式Iを満足することを特徴とする低反射積層体。 式I A≧B≧0【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基材上に少なくとも二層の低屈折率層を有する低反射積層体であって、該少なくとも二層の低屈折率層の基材側の層の微粒子含有率をA、表面側の層の微粒子含有率をBとした時に下記式Iを満足することを特徴とする低反射積層体。 式I A≧B≧0
IPC (3件)：
G02B1/11 ,  B05D7/24 ,  B32B7/02
FI (4件)：
G02B1/10 A ,  B05D7/24 302Y ,  B05D7/24 303L ,  B32B7/02 103
Fターム (76件)：
2K009AA02 ,  2K009AA12 ,  2K009CC09 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  4D075AE12 ,  4D075CA02 ,  4D075CA03 ,  4D075CA13 ,  4D075CA34 ,  4D075CB02 ,  4D075DA04 ,  4D075DB33 ,  4D075DB36 ,  4D075DB37 ,  4D075DB38 ,  4D075DB39 ,  4D075DB40 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DB55 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA21 ,  4D075EB20 ,  4D075EB22 ,  4D075EB24 ,  4D075EB33 ,  4D075EB35 ,  4D075EB37 ,  4D075EB38 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EC01 ,  4D075EC03 ,  4D075EC07 ,  4D075EC24 ,  4D075EC25 ,  4D075EC54 ,  4F100AA20B ,  4F100AA20C ,  4F100AH06B ,  4F100AH06C ,  4F100AK52B ,  4F100AK52C ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100AR00D ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA26 ,  4F100DE01B ,  4F100DE01C ,  4F100DE04B ,  4F100DE04C ,  4F100DJ00B ,  4F100DJ00C ,  4F100EH46 ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100JK06 ,  4F100JK14 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18D ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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